Apparatuurconfiguratie:
Apparatuurconfiguratie:
| Project | Index |
| Concentratie | 8600mg/m³ |
| Volume | 30000Nm³/u |
| Samenstelling | Ethylester, tolueen |
| Zuivering efficiëntie | 99.62% |
| Emissielimiet | 28,8 mg/m³ |
Apparatuurconfiguratie:
| Project | Index |
| Concentratie | 620 mg/m³ |
| Volume | 80000Nm³/u |
| Samenstelling | Xyleen, butyl |
| Zuivering efficiëntie | 96.1 % |
| Emissielimiet | 24,18 mg/m³ |
Organisch afvalgas: Alkanen, olefinen, alkynen, aromatische aldehyden, ketonen, ethers, zwavel/chloor/stikstof organische stoffen
Begeleidende componenten: H2Z, ZO2HCl CO2, NH3
| Moeilijkheidsgraad | Maatregelen | Moeilijkheidsgraad | Maatregelen |
| Bijtend gas | Alkalisch wassen, beitsen, ontvochtigen, Corrosiewerend materiaal, anticorrosieve coating | stikstofoxide | SNCR/SCR Denitratie |
| Concentratiepiek | Buffertank, FTA concentratie piek op afstand waarschuwing | Viskeus polymeer | Plaattype warmteopslagkeramiek en 12 mangaten voor onderhoud |
| dioxine | actieve kool adsorptie | restwarmte | Warme lucht recuperatie |
Afvalgascomponenten:
Processamenstelling:
Functies:
Apparatuurconfiguratie:
Functies:
Concentratiepiek, chloorhoudend
corrosie, amine-bevattend
Afvalgascomponenten:
3-methylpyridine, 3-cyanopyridine, 3-aminopyridine, methanol, tolueen, ethanol, triethylamine, chloroform, korteketenvetzuren, alifatische koolwaterstoffen, ammoniak en trichloorethyleen
Processamenstelling:
Concentratiefluctuatie voorbehandeling + RTO corrosiepreventie + nabehandeling om waterstofchloride en dioxine te verwijderen
Apparatuurconfiguratie:
Afvalgasleiding
Voorbehandelingssysteem
Functies:
Lipide-aerosol met hoog kookpunt, stof
Processamenstelling:
Neem nu contact met ons op om uw eigen project te realiseren regeneratieve thermische oxidatoren die wij te koop aanbieden!