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半導体産業向けRTO熱酸化装置

再生熱酸化装置（RTO）は、半導体業界で揮発性有機化合物（VOC）や有害大気汚染物質（HAP）の処理に広く使用されている先進技術です。この高効率システムは、環境規制への準拠を保証し、半導体製造における持続可能な取り組みを促進します。

RTO熱酸化装置の利点

高いVOC分解効率

RTO熱酸化装置は、通常99%を超える高いVOC分解効率を達成するように設計されています。これにより、半導体製造プロセス中に放出される有害物質を効果的に除去できます。

エネルギー効率とコスト削減

再生設計の RTO熱酸化装置
VOC燃焼時に発生する熱エネルギーを回収することができます。回収されたエネルギーは、流入するプロセスガス流の予熱に利用され、大幅なエネルギー節約と運転コストの削減につながります。

メンテナンスの必要性が低い

RTO熱酸化装置はシンプルで堅牢な設計を採用しており、操作とメンテナンスが容易です。複雑な部品がないため、頻繁なメンテナンスの必要性が軽減され、ダウンタイムを最小限に抑え、生産効率を最大化します。

環境コンプライアンス

RTO熱酸化装置は、半導体メーカーが厳しい環境規制を満たす上で重要な役割を果たします。これらのシステムは、VOC（揮発性有機化合物）とHAP（有害大気汚染物質）を効果的に分解することで、大気中への放出を防ぎ、半導体製造における環境への影響を低減します。

RTO熱酸化装置の動作

RTO 熱酸化装置の動作には、いくつかの重要なステップが含まれます。

吸着

VOC を含んだプロセスガスは最初の再生器に送られ、そこで表面積の大きいセラミック媒体が VOC を吸着します。

予熱

クリーンなプロセスガスは、再生器を通過する際に、前のサイクルで蓄えられた熱を利用して予熱されます。

燃焼

予熱されたガスは燃焼室に入り、燃焼に必要な温度まで加熱されます。VOCは二酸化炭素と水蒸気に酸化されます。

熱回収

燃焼室から排出される高温のクリーンなガスは第 2 再生器を通過し、その熱をセラミック媒体に伝達します。

冷却と排出

処理されたガスは大気中に放出される前に冷却され、一方、最初の再生器内のセラミック媒体は吸着された VOC を清浄な空気の流れによって除去されます。

全体として、RTO 熱酸化装置の運転により、エネルギー消費を最小限に抑え、環境コンプライアンスを維持しながら、VOC を効率的に破壊することができます。

会社紹介

当社は、半導体業界における揮発性有機化合物（VOC）排出の総合管理、二酸化炭素排出量削減、省エネ技術を専門とするハイテク設備製造企業です。コア技術には、熱エネルギー、燃焼、シーリング、自動制御などがあり、温度場や気流場のシミュレーション、モデル計算、セラミック蓄熱材や分子ふるい吸着材の選定、VOCの高温焼却・酸化実験などが可能です。

We have RTO technology R&D center and waste gas carbon reduction engineering technology center in Xi’an, and a 30,000©O production base in Yangling. We are the leading manufacturer of RTO equipment and molecular sieve rotary equipment in terms of output and sales volume worldwide. Our core technology team comes from the Aerospace Liquid Rocket Engine Research Institute (Aerospace 6th Institute). We have more than 360 employees, including over 60 R&D technical backbones, 3 research fellows, 6 senior engineers, and 197 thermodynamic doctors.

当社の主力製品は、RTO（逆浸透膜ろ過）と分子ふるい吸着濃縮回転装置です。環境保護および熱エネルギーシステムエンジニアリング技術の専門知識と組み合わせることで、産業排ガス処理、熱エネルギー利用、二酸化炭素排出量削減など、お客様に包括的なソリューションを提供できます。